Plasma Atomic Layer Etching of SiO2 and Si3N4 with Low Global Warming C4H3F7O Isomers

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标题	Plasma Atomic Layer Etching of SiO2 and Si3N4 with Low Global Warming C4H3F7O Isomers 低全球变暖C4H3F7O异构体等离子体原子层刻蚀SiO2和Si3N4 相关领域选择性蚀刻（微加工）溅射分析化学（期刊）原子层沉积乙醚等离子体原子碳化学氟碳化合物图层（电子）材料科学纳米技术有机化学薄膜物理量子力学催化作用
网址	https://doi.org/10.1021/acssuschemeng.2c05186
DOI	10.1021/acssuschemeng.2c05186 doi
其它	期刊：ACS Sustainable Chemistry & Engineering 作者：Yong-Jae Kim; Hyo Kang; Changkoo Kim; Heeyeop Chae 出版日期：2023-04-13
求助人	积极的初南在 2025-01-01 17:18:21 发布自湖北，悬赏 10 积分
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