Plasma simulation of HF plasma generated in dual-frequency chamber for high aspect ratio dielectric etching

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标题	Plasma simulation of HF plasma generated in dual-frequency chamber for high aspect ratio dielectric etching 高纵横比介质刻蚀用双频室高频等离子体的等离子体模拟相关领域等离子体蚀刻（微加工）原子物理学电介质等离子体刻蚀材料科学氟化氢电子密度等离子体参数电子分析化学（期刊）化学计算物理学物理光电子学核物理学纳米技术图层（电子）无机化学色谱法
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad6e91
DOI	10.35848/1347-4065/ad6e91 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Shigeyuki Takagi; Shih‐Nan Hsiao; Chih-Yu Ma; Makoto Sekine; Fumihiko Matsunaga 出版日期：2024-08-13
求助人	威武画板在 2025-03-05 20:35:55 发布自上海，悬赏 10 积分
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