Tunnel Electroresistance in Hf0.5Zr0.5O2-Based Ferroelectric Tunnel Junctions under Hysteresis: Approach of the Point Contact Model and the Linearized Thomas-Fermi Screening

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标题	Tunnel Electroresistance in Hf0.5Zr0.5O2-Based Ferroelectric Tunnel Junctions under Hysteresis: Approach of the Point Contact Model and the Linearized Thomas-Fermi Screening 磁滞下Hf0.5Zr 0.5 O2基铁电隧道结的隧道电阻：点接触模型和线性Thomas-Fermi屏蔽方法相关领域铁电性磁滞材料科学凝聚态物理点（几何）隧道枢纽
网址	http://dx.doi.org/10.1021/acsaelm.2c00022
DOI	10.1021/acsaelm.2c00022 doi
求助人	yyy 在 2025-03-09 23:20:41 发布自上海，悬赏 10 积分
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