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Silicon ultrafast recovery diode with leakage current reduced via the combined lifetime process of gold diffusion and electron-beam irradiation
利用金扩散和电子束辐照联合寿命工艺降低漏电流的硅超快恢复二极管
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期刊:Semiconductor Science and Technology 作者:Hideto Onishi; Hajime Shirai 出版日期:2023-12-29 |
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