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标题
A comparison of different methods of characterizing EUV photoresist shrinkage
不同表征EUV光致抗蚀剂收缩率的方法比较
相关领域
光刻胶 收缩率 极紫外光刻 计量学 材料科学 抵抗 计算机科学 纳米技术 光学 复合材料 物理 图层(电子)
网址
DOI
10.1117/12.2297695 doi
其它 期刊:
作者:Ramya Viswanathan; Scott Mansfield; Wenxin Li; Hongxin Zhang; Roger Cornell; et al
出版日期:2018-03-19
求助人
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