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 Contact local CD uniformity optimization through etch shrink 通过蚀刻收缩优化接触局部CD均匀性
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期刊：Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (SPIE) Conference Series 作者：Eric R. Miller; Junling Sun; Jennifer Church; Xinghua Sun; Angélique Raley 出版日期：2021-02-19 |
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