标题 |
Process optimization of 4H-SiC chemical mechanical polishing based on grey relational analysis
基于灰色关联分析的4H-SiC化学机械抛光工艺优化
相关领域
化学机械平面化
抛光
灰色关联分析
薄脆饼
表面粗糙度
转速
材料科学
磨料
体积流量
工艺优化
粒子(生态学)
泥浆
粒径
机械工程
复合材料
纳米技术
机械
化学
工程类
数学
化学工程
数理经济学
地质学
物理
海洋学
物理化学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Semiconductor Science and Technology 作者:Xinxing Ban; Tao Duan; Zhuangzhi Tian; Yunhe Li; Jianhui Zhu; et al 出版日期:2023-06-07 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|