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 Quantitative in situ synchrotron X-ray analysis of the ALD/MLD growth of transition metal dichalcogenide TiS2 ultrathin films 过渡金属二硫族化物TiS2超薄膜ALD/MLD生长的原位同步辐射X射线定量分析
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期刊：Nanoscale 作者：Ashok-Kumar Yadav; Weiliang Ma; Petros Abi Younes; Gianluca Ciatto; Nicolas Gauthier; et al 出版日期：2023-12-13 |
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