Influence of Deposition Temperature on the SiN<sub><em>x</em></sub>:H Film Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

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标题	Influence of Deposition Temperature on the SiN<sub><em>x</em></sub>:H Film Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 沉积温度对等离子体增强化学气相沉积SiN_x：H薄膜的影响相关领域沉积（地质）化学气相沉积等离子体材料科学分析化学（期刊）等离子体增强化学气相沉积化学纳米技术环境化学物理生物古生物学量子力学沉积物
网址	https://doi.org/10.3866/pku.whxb20110632
DOI	10.3866/pku.whxb20110632 doi
其它	期刊：Acta Physico-Chimica Sinica 作者：WEN Zhen-Li; Cao Xiao-Ning; Zhou Chun-Lan; Lei Zhao; Hailing Li; et al 出版日期：2011-01-01
求助人	柳柳在 2024-09-23 08:53:57 发布自江苏，悬赏 10 积分
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