Advancements in EUV photoresists for high-NA lithography

已关闭

文献求助详情

标题	Advancements in EUV photoresists for high-NA lithography 高钠光刻用EUV光刻胶的研究进展
网址	https://doi.org/10.1117/12.2686250
DOI	10.1117/12.2686250 doi
其它	期刊：International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023 作者：Aysegul Develioglu; Michaela Vockenhuber; Lidia van Lent-Protasova; Iacopo Mochi; Yasin Ekinci; et al 出版日期：2023
求助人	宁友灵在 2024-03-19 11:37:20 发布自北京，悬赏 20 积分
下载

上个求助

求助 / 应助时间线

10个月前，求助关闭

宁友灵求助人 Lv1 关闭了本次求助。

说明已找到【积分已退回】
10个月前

宁友灵求助人 Lv1 发起了本次求助

我的文献求助列表浏览历史

一分钟了解求助规则 | 捐赠本站 | 历史今天

更新

2024年影响因子查询已上线 (2024-6-20)

更新

大幅提高文件上传限制，最高150M (2024-4-1)

科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。

实时播报: PDC发布了新的文献求助30

刚刚; 李爱国上传了应助文件

刚刚; 可爱的函函上传了应助文件

1秒前; 酷波er的应助被Chaos采纳，获得10

1秒前; Ammon发布了新的文献求助10

1秒前; zy_完成签到，获得积分10

2秒前; 玊玉完成签到，获得积分10

3秒前; wangwang发布了新的文献求助10

3秒前; 星辰完成签到，获得积分10

4秒前; hakunamatata完成签到，获得积分10

4秒前; sofea发布了新的文献求助30

5秒前; 雷雷完成签到，获得积分10

5秒前; 奔铂儿钯发布了新的文献求助10

5秒前; lane关注了科研通微信公众号

6秒前; 春国上传了应助文件

6秒前; 充电宝上传了应助文件

7秒前; 快乐再出发完成签到，获得积分10

7秒前; prosperp的应助被mmyhn采纳，获得10

7秒前; 无花果的应助被sy2001采纳，获得10

7秒前; W2026完成签到，获得积分10

7秒前; 顺利又菱完成签到，获得积分10

8秒前; 顺利的尔槐完成签到，获得积分10

8秒前; wangwang完成签到，获得积分10

9秒前; zyf发布了新的文献求助10

10秒前; dongdongqiang完成签到，获得积分10

11秒前; shy完成签到，获得积分10

12秒前; 科目三上传了应助文件

13秒前; 聪明灭绝完成签到，获得积分10

14秒前; LXZ完成签到，获得积分10

14秒前; 子车茗上传了应助文件

15秒前; 柿饼完成签到，获得积分10

15秒前; 无花果上传了应助文件

16秒前; 邱寒烟aa完成签到，获得积分0

16秒前; LALALADDDD完成签到，获得积分10

17秒前; 当女遇到乔完成签到，获得积分10

18秒前; hope的应助被前排61采纳，获得10

19秒前; 汉堡包上传了应助文件

19秒前; momo发布了新的文献求助10

20秒前; 研友_VZG7GZ上传了应助文件

20秒前; sy2001发布了新的文献求助10

20秒前