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标题
High voltage time-dependent dielectric breakdown in stacked intermetal dielectrics
叠层金属间电介质中的高压时变介电击穿
相关领域
随时间变化的栅氧化层击穿 材料科学 电介质 电容器 介电强度 等离子体增强化学气相沉积 光电子学 堆栈（抽象数据类型） 栅氧化层 栅极电介质 可靠性（半导体） 电压 化学气相沉积 电气工程 电子工程 晶体管 功率（物理） 计算机科学 工程类 物理 量子力学 程序设计语言
网址
https://doi.org/10.1109/irps.2018.8353669
DOI
10.1109/irps.2018.8353669 doi
其它 期刊：2022 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS)
作者：SangHoon Shin; Yen-Pu Chen; Woojin Ahn; Honglin Guo; Byron Williams; et al
出版日期：2018-03-01
求助人
Kevin 在 2024-12-15 22:36:00 发布自北京，悬赏 10 积分
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