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 Thermal Atomic Layer Etching of Silica and Alumina Thin Films Using Trimethylaluminum with Hydrogen Fluoride or Fluoroform 三甲基铝与氟化氢或氟仿热原子层刻蚀二氧化硅和氧化铝薄膜
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Rezwanur Rahman; Eric C. Mattson; Joseph P. Klesko; Aaron Dangerfield; S. Rivillon-Amy; et al 出版日期：2018-09-04 |
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