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 Mechanisms for enhanced ferroelectric properties in ultra-thin Hf0.5Zr0.5O2 film under low-temperature, long-term annealing 低温长时间退火增强超薄Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜铁电性能的机理
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Lu Tai; Xiaopeng Li; Xiaoyu Dou; Pengpeng Sang; Xuepeng Zhan; et al 出版日期：2024-08-26 |
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