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标题
Ultra-scaled MOCVD MoS2 MOSFETs with 42nm contact pitch and 250µA/µm drain current
具有42nm接触间距和250µA/µm漏极电流的超大规模MOCVD MoS2 MOSFET
相关领域
金属有机气相外延 材料科学 光电子学 化学气相沉积 GSM演进的增强数据速率 MOSFET 频道（广播） 金属浇口 电流（流体） 接触电阻 电气工程 CMOS芯片 基质（水族馆） 晶体管 栅氧化层 纳米技术 外延 计算机科学 电压 图层（电子） 工程类 电信
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/8971803/8993428/08993650...
DOI
10.1109/iedm19573.2019.8993650 doi
其它 期刊：2019 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM)
作者：Quentin Smets; Benjamin Groven; Matty Caymax; Iuliana Radu; Goutham Arutchelvan; et al
出版日期：2020-02-14
求助人
帅上天 在 2025-01-18 17:14:53 发布自四川，悬赏 10 积分
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