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 WSi/sub x//poly-Si gate stack etching for advanced dRAM applications 用于高级dRAM应用的WSi/sub x//多晶硅栅极堆叠蚀刻
相关领域
材料科学
钝化
蚀刻（微加工）
硅化物
栅氧化层
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氧化物
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浅沟隔离
硅
图层（电子）
纳米技术
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计算机科学
计算机视觉
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期刊： 作者：F. Leverd; L. Loisil; Thorsten Lill; J. Trevor; P. Van Holt; et al 出版日期：2003-01-20 |
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