Channel Mobility Boosting in a Poly-Si Channel Using Ge Diffusion Engineering and Hydrogen Plasma Treatment

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标题	Channel Mobility Boosting in a Poly-Si Channel Using Ge Diffusion Engineering and Hydrogen Plasma Treatment 相关领域频道（广播）材料科学扩散电介质分析化学（期刊）电气工程光电子学拓扑（电路）化学物理工程类有机化学热力学
网址	https://doi.org/10.1109/led.2022.3140471
DOI	10.1109/led.2022.3140471 doi
其它	期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Tae Hoon Lee; Eun Kyung Kim; Eui-Cheol Shin; Gyusoup Lee; Jaejoong Jeong; et al 出版日期：2022-03-01
求助人	三金在 2023-06-12 09:53:19 发布自河北，悬赏 10 积分
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