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 Numerical and experimental investigation of the effect of side injectors on the deposition rate near the wafer edge during atmospheric pressure chemical vapor deposition 大气压化学气相沉积过程中侧注入器对晶片边缘沉积速率影响的数值与实验研究
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：B. Le; Wei-Jie Lin; Jyh Chen Chen; Chieh Hu; Chuanyi Tu; et al 出版日期：2024-03-01 |
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