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标题
Via Bottom Profile Optimization in All-in-One Etch with Double Patterning Scheme
采用双图案化方案的一体化蚀刻中通孔底部轮廓优化
相关领域
多重图案 沟槽 互连 蚀刻（微加工） 材料科学 图层（电子） 临界尺寸 光电子学 平版印刷术 节点（物理） 进程窗口 浅沟隔离 等离子体刻蚀 纳米技术 光学 计算机科学 抵抗 物理 电信 量子力学
网址
https://doi.org/10.1149/ma2017-02/26/1139
DOI
10.1149/ma2017-02/26/1139 doi
其它 期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM)
作者：Ke-Fang Yuan; Jun-Qing Zhou; Minda Hu; Qiyang He; Haiyang Zhang
出版日期：2017-09-01
求助人
Mr_龙在天涯 在 2025-03-19 11:39:47 发布自新加坡，悬赏 10 积分
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