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 Characteristics of Polymer Residues Formed at the Via Hole and Photoresist Ashing Properties of Remote Oxygen/Nitrogen Plasma 通孔处形成的聚合物残留物的特征和远程氧/氮等离子体的光致抗蚀剂灰化特性
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Sung Bae Kim; Hyungtak Seo; Jongkook Song; Young Do Kim; Hyun Soh; et al 出版日期：2003-03-15 |
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