| 标题 |
 High-speed atomic force microscopy studies of 193-nm immersion photoresists during tetramethylammonium hydroxide development 四甲基氢氧化铵显影过程中193 nm浸没光刻胶的高速原子力显微镜研究
相关领域
抵抗
四甲基氢氧化铵
光刻胶
原子力显微镜
材料科学
溶解
纳米技术
平版印刷术
纳米
表面粗糙度
表面光洁度
复合材料
化学工程
光电子学
图层（电子）
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Micro-nanolithography Mems and Moems 作者：Johnpeter N. Ngunjiri; Gregory F. Meyers; James F. Cameron; Y. Suzuki; Hyun K. Jeon; et al 出版日期：2018-06-22 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
Kao
cdercder
Nole
Criminology34
Copyright
伶俐妙海
学术文献互助
OK
yjh123
斯文钢笔
sagitar
Twonej
蓝天
GingerF
初景
aaaa
avalanche
老胡
潇洒的惋清
皖公网安备34019202002308
