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 A systematic study to investigate the effects of x-ray exposure on electrical properties of silicon dioxide thin films using x-ray photoelectron spectroscopy 使用X射线光电子能谱研究X射线暴露对二氧化硅薄膜电性能影响的系统研究
相关领域
X射线光电子能谱
薄膜
结合能
二氧化硅
基质（水族馆）
材料科学
硅
分析化学（期刊）
X射线
化学
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原子物理学
光学
纳米技术
核磁共振
物理
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色谱法
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| 其它 |
期刊：Journal of Chemical Physics 作者：Carlos Muñoz; T. Iken; Nuri Oncel 出版日期：2023-10-25 |
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