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Introduction of the MC3-II/GP system, medium current ion implanter with enhanced multi-charge beam current
介绍MC3-II/GP系统,具有增强的多电荷束流的中电流离子注入机
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期刊:AIP conference proceedings 作者:Masazumi Koike; Fumiaki Sato; Makoto Sano; Sho Kawatsu; Hiroyuki Kariya; et al 出版日期:2012-01-01 |
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