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标题
Investigation of Chemical Mechanical Polishing of GaAs Wafer by the Effect of a Photocatalyst
光催化剂对GaAs晶片化学机械抛光的研究
相关领域
抛光 薄脆饼 泥浆 材料科学 化学机械平面化 半导体 光催化 光电子学 冶金 复合材料 化学 催化作用 生物化学
网址
https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.291-292.381
DOI
10.4028/www.scientific.net/kem.291-292.381 doi
其它 期刊：Key engineering materials
作者：S.H. Hong; H. Isii; Mutsumi Touge; Junji Watanabe
出版日期：2005-08-01
求助人
1433223 在 2025-01-04 14:50:48 发布自天津，悬赏 30 积分
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