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 Comparison of TiSi2 , CoSi2, and NiSi for Thin‐Film Silicon‐on‐Insulator Applications 用于绝缘体上硅薄膜应用的TiSi2、CoSi2和NiSi的比较
相关领域
材料科学
薄膜
绝缘体上的硅
硅
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：J. Chen; J.P. Colinge; Denis Flandre; Renaud Gillon; J.‐P. Raskin; et al 出版日期：1997-07-01 |
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