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[高分]
 Electron dose reduction through improved adhesion by cationic organic material with HSQ resist on an InGaAs multilayer system on GaAs substrate 阳离子有机材料与HSQ抗蚀剂在GaAs衬底上的InGaAs多层系统上通过改善粘附来降低电子剂量
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Wilfried Erfurth; Andrew Thompson; Nezih Ünal 出版日期：2013-03-29 |
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