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Influence of Annealing on Thin Film/Substrate Interface and Vacuum Ultraviolet Photoconductivity of Neodymium Fluoride Thin Films
退火对氟化钕薄膜薄膜/衬底界面和真空紫外光电导率的影响
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期刊:Advanced Materials Interfaces 作者:Tomoki Kato; Marilou Cadatal‐Raduban; Yusuke Horiuchi; Gakuto Ozawa; Shingo Ono 出版日期:2023-12-09 |
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