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Compositional analysis by RBS, XPS and EDX of ZnO:Al,Bi and ZnO:Ga,Bi thin films deposited by d.c. magnetron sputtering
用RBS、XPS和EDX对直流沉积的ZnO:Al、Bi和ZnO:Ga、Bi薄膜进行成分分析磁控溅射
相关领域
X射线光电子能谱
材料科学
薄膜
卢瑟福背散射光谱法
分析化学(期刊)
溅射
铋
溅射沉积
掺杂剂
退火(玻璃)
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DOI |
10.1016/j.vacuum.2018.12.038
doi
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其它 |
期刊:Vacuum 作者:Joana M. Ribeiro; Filipe C. Correia; Paulo Miguel Babo Cunha Salvador; L. Rebouta; L.C. Alves; et al 出版日期:2019-03-01 |
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