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 Influence of the Cl2 etching on the Al2O3/GaN metal–oxide–semiconductor interface Cl2刻蚀对Al2O3/GaN金属氧化物半导体界面的影响
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Thibaut Meyer; Sarah Boubenia; C. Petit-Etienne; B. Salem; E. Pargon 出版日期：2022-11-17 |
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