Technology of static oblique lithography used to improve the fidelity of lithography pattern based on DMD projection lithography

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标题	Technology of static oblique lithography used to improve the fidelity of lithography pattern based on DMD projection lithography 基于DMD投影的静态倾斜光刻技术提高光刻图形保真度相关领域平版印刷术无光罩微影光学材料科学 X射线光刻斜格光掩模制作计算光刻光刻下一代光刻投影（关系代数）抵抗电子束光刻计算机科学物理纳米技术图层（电子）医学替代医学算法语言学病理哲学
网址	https://doi.org/10.1016/j.optlastec.2022.108666
DOI	10.1016/j.optlastec.2022.108666 doi
其它	期刊：Optics and Laser Technology 作者：Long Huang; Chunxia Liu; Han Zhang; Shaoqing Zhao; Mingyue Tan; et al 出版日期：2023-01-01
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