Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition: Basics, Opportunities, and Challenges

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标题	Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition: Basics, Opportunities, and Challenges 等离子体辅助原子层沉积：基础、机遇和挑战相关领域微电子原子层沉积小型化材料科学等离子体薄膜纳米技术沉积（地质）等离子体处理化学计算机科学物理量子力学古生物学沉积物生物
网址	https://doi.org/10.1116/1.3609974
DOI	10.1116/1.3609974 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Harald B. Profijt; Stephen E. Potts; van de Mcm Richard Sanden; W. M. M. Kessels 出版日期：2011-08-18
求助人	罗霄山在 2024-09-22 20:34:54 发布自浙江，悬赏 10 积分
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