Atomic Layer Processes for Material Growth and Etching—A Review

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标题	Atomic Layer Processes for Material Growth and Etching—A Review 材料生长和蚀刻的原子层工艺研究进展相关领域原子层沉积蚀刻（微加工）原子层外延纳米技术图层（电子）材料科学减色等离子体刻蚀半导体工业逐层工程物理光电子学计算机科学工程类物理制造工程光学
网址	https://doi.org/10.1109/tsm.2021.3112502
DOI	10.1109/tsm.2021.3112502 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者：Faiz Rahman; Julian C. Runyon 出版日期：2021-11-01
求助人	Fu 在 2024-03-17 14:36:08 发布自浙江，悬赏 10 积分
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