A Particle Reduction Strategy for Plasma Etching Processes

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标题	A Particle Reduction Strategy for Plasma Etching Processes 相关领域蚀刻（微加工）还原（数学）等离子体等离子体刻蚀粒子（生态学）材料科学计算机科学光电子学纳米技术物理数学地质学核物理学几何学海洋学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1109/asmc61125.2024.10545452
DOI	10.1109/asmc61125.2024.10545452 doi
其它	期刊：作者：Jae-In Jeong; Y. H. Kim; Jiyeon Lee; Youngjeong Kim 出版日期：2024-05-13
求助人	Bennyz 在 2024-09-12 19:59:19 发布自江苏，悬赏 10 积分
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