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标题
CD metrology for EUV resist using high-voltage CD-SEM: shrinkage, image sharpness, repeatability, and line edge roughness
使用高压CD-SEM进行EUV抗蚀剂的CD计量：收缩率、图像清晰度、可重复性和线边缘粗糙度
相关领域
计量学 极紫外光刻 抵抗 GSM演进的增强数据速率 重复性 材料科学 收缩率 表面光洁度 数码产品 光学 表面粗糙度 直线（几何图形） 纳米技术 光电子学 计算机科学 工程类 电气工程 物理 复合材料 电信 图层（电子） 几何学 化学 色谱法 数学
网址
https://doi.org/10.1117/1.jmm.18.3.034004
DOI
10.1117/1.jmm.18.3.034004 doi
其它 期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS
作者：Daisuke Bizen; Shunsuke Mizutani; Makoto Sakakibara; Makoto Suzuki; Yoshinori Momonoi
出版日期：2019-09-18
求助人
狂野雁丝 在 2025-04-18 15:51:43 发布自广东，悬赏 20 积分
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