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标题
Polishing Characteristics and Mechanism of Polishing Glass Substrate Using Suede Pad with Fine Micrometer-Sized Pores
微米级细孔麂皮垫抛光玻璃基板的抛光特性及机理
相关领域
抛光 材料科学 化学机械平面化 复合材料 表面光洁度 千分尺 表面粗糙度 制作 光学 医学 物理 病理 替代医学
网址
https://doi.org/10.20965/ijat.2022.p0052
DOI
10.20965/ijat.2022.p0052 doi
其它 期刊：International Journal of Automation Technology
作者：Michio Uneda; Nodoka Yamada; Yoshihiro Tawara
出版日期：2022-01-03
求助人
黄雨果 在 2025-01-15 15:55:39 发布自广东，悬赏 10 积分
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