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标题
Oxygen elimination effect in silicon thin film by neutral beam assisted CVD system at room temperature
室温中性束辅助CVD系统对硅薄膜中氧的消除效应
相关领域
材料科学 氧气 无定形固体 溅射 硅 X射线光电子能谱 氢 光电子学 带隙 薄膜 分析化学（期刊） 纳米技术 化学 核磁共振 物理 有机化学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1109/pvsc.2010.5617028
DOI
10.1109/pvsc.2010.5617028 doi
其它 期刊：
作者：Jin Nyoung Jang; Byoung Chul Song; Dong Hyeok Lee; Daechul Kim; Suk Jae Yoo; et al
出版日期：2010-06-01
求助人
Thomas周 在 2024-12-18 16:18:55 发布自上海，悬赏 10 积分
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