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 Ferroelectric La-doped HfO2 Deposited via Chemical Solution on Silicon for Tellurium Field-Effect Phototransistors 硅上化学溶液沉积掺镧铁电HfO2用于碲场效应光电晶体管
相关领域
碲
掺杂剂
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硅
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期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Ui-Sik Jeong; Hyun Yeol Rho; Haewon Cho; Muhammad Naqi; Joo On Oh; et al 出版日期：2023-12-01 |
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