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 Grain boundary mediated leakage current in polycrystalline HfO2 films 多晶HfO2薄膜中晶界介导的漏电流
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：Keith P. McKenna; Alexander L. Shluger; V. Iglesias; M. Porti; M. Nafrı́a; et al 出版日期：2011-04-15 |
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