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标题
Area-selective atomic layer deposition (AS-ALD) of low temperature (300 °C) cobalt thin film using octadecyltrichlorosilane (ODTS) self-assembled monolayers (SAMs)
使用十八烷基三氯硅烷（ODTS）自组装单层（SAMs）的低温（300°C）钴薄膜的区域选择性原子层沉积（AS-ALD）
相关领域
十八烷基三氯氢硅 原子层沉积 单层 自组装单层膜 材料科学 钴 图层（电子） 纳米技术 沉积（地质） 薄膜 化学工程 自组装 冶金 工程类 古生物学 沉积物 生物
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.160033
DOI
10.1016/j.apsusc.2024.160033 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Chaewon Kim; Moonsuk Choi; Ji-Hyun Sim; Hyung-jun Kim; Changhwan Choi
出版日期：2024-04-01
求助人
Zever 在 2025-02-07 09:04:05 发布自湖北，悬赏 10 积分
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