High quality ITO thin films grown by dc and RF sputtering without oxygen - 科研通

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标题	High quality ITO thin films grown by dc and RF sputtering without oxygen 无氧直流和射频溅射制备高质量ITO薄膜相关领域材料科学基质（水族馆）溅射薄膜霍尔效应结晶电阻率和电导率氧化铟锡带隙溅射沉积光电子学铟分析化学（期刊）化学纳米技术电气工程海洋学地质学工程类色谱法有机化学
网址	https://doi.org/10.1088/0022-3727/43/5/055402
DOI	10.1088/0022-3727/43/5/055402 doi
其它	期刊：Journal of Physics D 作者：Ö. Tuna; Yusuf Selamet; Gülnur Aygün; L. Özyüzer 出版日期：2010-01-21
求助人	研友_汪老头在 2025-01-07 13:44:36 发布自中国，悬赏 10 积分
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