| 标题 |
 Measurements of ion fluxes in extreme ultraviolet-induced plasma of new EUV-beam-line 2 nanolithography research machine and their applications for optical component tests 新型EUV光束线2纳米光刻研究机极紫外诱导等离子体中离子通量的测量及其在光学元件测试中的应用
相关领域
极紫外光刻
极端紫外线
离子
离子束
光掩模
光学
等离子体
材料科学
激光器
梁（结构）
原子物理学
光电子学
化学
物理
抵抗
纳米技术
核物理学
有机化学
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Jacqueline van Veldhoven; Chien‐Ching Wu; Arnold J. Storm; Michel van Putten; J. R. Meijlink; et al 出版日期：2023-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cdercder
科研小民工
HEIKU
Oracle
Jackylee
斯寜
GrindSeason
bc
糟糕的铁锤
VDC
戴戴
痴情的博超
昏睡的蟠桃
劲秉
Wmmmmm
Cui
小透明
Kristopher
赫枫
剑指东方是为谁
皖公网安备34019202002308
