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标题
The effect of TEOS plasma parameters on the silicon dioxide deposition mechanisms
TEOS等离子体参数对二氧化硅沉积机理的影响
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网址
https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2013.03.008
DOI
10.1016/j.jnoncrysol.2013.03.008 doi
其它 期刊：Journal of Non-Crystalline Solids
作者：Marzieh Abbasi-Firouzjah; Seyed-Iman Hosseini; Mahdi Shariat; Babak Shokri
出版日期：2013-04-03
求助人
Zex 在 2025-02-23 23:38:45 发布自北京，悬赏 10 积分
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