Simulation of the effect of a resist-surface bound air bubble on imaging in immersion lithography

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标题	Simulation of the effect of a resist-surface bound air bubble on imaging in immersion lithography 相关领域气泡浸没式光刻沉浸式（数学）抵抗平版印刷术气泡材料科学薄脆饼机械纳米技术光学复合材料物理光电子学几何学数学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.599792
DOI	10.1117/12.599792 doi
其它	期刊：Optical Microlithography XVIII 作者：Peter De Bisschop; Andreas Erdmann; A. Rathsfeld 出版日期：2005-05-12
求助人	研友_kngAY8 在 2023-06-12 10:05:32 发布自上海，悬赏 10 积分
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