EUV mask defect inspection for the 3nm technology node

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标题	EUV mask defect inspection for the 3nm technology node 3nm技术节点EUV掩模缺陷检测相关领域极紫外光刻薄脆饼平版印刷术节点（物理）多重图案材料科学光掩模光刻极端紫外线光电子学计算机科学光学物理纳米技术抵抗声学激光器图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.2678392
DOI	10.1117/12.2678392 doi
其它	期刊：作者：Yannick Hermans; Tilmann Heil; Renzo Capelli; Bartholomaeus Szafranek; Daniel Rhinow; et al 出版日期：2023-10-05
求助人	hero_ljw 在 2023-10-20 09:29:06 发布自吉林，悬赏 10 积分
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