Evaluating diffusion barriers of defects in boron ion implanted diamond

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标题	Evaluating diffusion barriers of defects in boron ion implanted diamond 硼离子注入金刚石缺陷扩散势垒的评价相关领域钻石掺杂剂硼离子注入退火（玻璃）空位缺陷材料科学兴奋剂离子金刚石材料性能化学物理结晶学光电子学化学冶金有机化学
网址	https://doi.org/10.1016/j.diamond.2023.110691
DOI	10.1016/j.diamond.2023.110691 doi
其它	期刊：Diamond and Related Materials 作者：Nandan Tandon; T.A. Grotjohn; John D. Albrecht 出版日期：2024-01-01
求助人	madmax 在 2024-06-11 15:05:28 发布自河北，悬赏 10 积分
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