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 Investigation on spatially separated atomic layer deposition by gas flow simulation and depositing Al2O3 films 用气流模拟和沉积Al2O3薄膜研究空间分离原子层沉积
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期刊：Journal of vacuum science & technology. A. Vacuum, surfaces, and films 作者：Sungin Suh; Sang‐Hyun Park; Hajin Lim; Yu‐Jin Choi; Cheol Seong Hwang; et al 出版日期：2012-07-13 |
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