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标题
Equal-Bilayer MoSe2 Grown by a Nucleation-Etching Strategy with High Carrier Mobility
高载流子迁移率的等双层MoSe2成核蚀刻技术
相关领域
材料科学 双层 成核 蚀刻（微加工） 图层（电子） 电子迁移率 单层 光电子学 肖特基势垒 Crystal（编程语言） 纳米技术 化学气相沉积 晶界 晶体管 化学 膜 复合材料 生物化学 有机化学 微观结构 物理 二极管 电压 量子力学 计算机科学 程序设计语言
网址
https://doi.org/10.1021/acsnano.4c10120
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1021/acsnano.4c10120 doi
其它 期刊：ACS Nano
作者：Jia‐Mei Chen; Maolin Chen; Xing Xin; Wei Xin; Weizhen Liu; et al
出版日期：2024-12-18
求助人
吴雨 在 2024-12-25 12:41:25 发布自天津，悬赏 10 积分
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