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 Effect of atomic layer deposition process parameters on TiN electrode for Hf0.5Zr0.5O2 ferroelectric capacitor 原子层沉积工艺参数对Hf0.5Zr0.5O2铁电电容器用Ti电极的影响
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期刊：Semiconductor Science and Technology 作者：Hongbo Li; Jianqi Zhang; Chongyong Guo; Yuanya Liu; Chunyan Liu; et al 出版日期：2024-09-02 |
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