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First demonstration of full integration and characterization of 4F² 1S1M cells with 45 nm of pitch and 20 nm of MTJ size
首次展示间距为45 nm、MTJ尺寸为20 nm的4F²1S1M电池的完全集成和表征
相关领域
磁阻随机存取存储器
可扩展性
CMOS芯片
点(几何)
计算机科学
光电子学
材料科学
电气工程
随机存取存储器
电子工程
计算机硬件
工程类
数学
操作系统
几何学
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期刊:2022 International Electron Devices Meeting (IEDM) 作者:Soo Man Seo; H. Aikawa; Soo Gil Kim; T. Nagase; Yuich Ito; et al 出版日期:2022-12-03 |
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