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标题
Polypeptoids: Exploring the Power of Sequence Control in a Photoresist for Extreme‐Ultraviolet Lithography
多肽类：探索用于极紫外光刻的光刻胶中序列控制的力量
相关领域
光刻胶 抵抗 平版印刷术 极紫外光刻 材料科学 异丙醇 紫外线 侧链 溶解度 溶解 聚合物 化学 纳米技术 光电子学 有机化学 复合材料 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1002/admt.202301104
AI链接 wiley.comdoi.org
DOI
10.1002/admt.202301104 doi
其它 期刊：Advanced Materials Technologies
作者：Florian Käfer; Chaoqiuyu Wang; Yuming Huang; Francesca Bard; Rachel A. Segalman; et al
出版日期：2023-10-16
求助人
跳跃的含双 在 2025-01-15 11:05:00 发布自浙江，悬赏 10 积分
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