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标题
Reaction of HF molecules with metal impurities on Si surfaces
HF分子与硅表面金属杂质的反应
相关领域
金属 Atom（片上系统） 分子 杂质 蚀刻（微加工） 化学 化学反应 物理化学 材料科学 化学物理 无机化学 光化学 有机化学 图层（电子） 计算机科学 嵌入式系统
网址
https://doi.org/10.1063/1.478600
DOI
10.1063/1.478600 doi
其它 期刊：The Journal of Chemical Physics
作者：Tyuji Hoshino; Yasushiro Nishioka
出版日期：1999-04-08
求助人
zsss 在 2025-02-07 09:32:45 发布自湖北，悬赏 10 积分
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